清田 英夫
キヨタ ヒデオ
- 教授
- 学位：博士（工学）
基本情報
所属
- 文理融合学部 / 人間情報工学科
- 基盤工学部 / 電気電子情報工学科
- 総合理工学研究科 / 総合理工学専攻
詳細情報
研究キーワード
- 薄膜
- ダイヤモンド
- デバイス
- 半導体
研究分野
- ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） 電気電子材料工学
論文
Semiconductive properties of alternating Mg/C multi-layer films with hydroxylation treatment
Electrical properties of polycrystalline diamond/hydrogenated amorphous silicon interfaces.
講演・口頭発表等
- Field emission from amorphous carbon films grown by electrochemical deposition using methanol liquid
所属学会
- 日本応用物理学会
共同研究・競争的資金等の研究課題
電気化学プロセスによる窒化カーボンの液相合成とLow-k層間絶縁膜への応用
液相中でのダイヤモンドライクカーボン薄膜の堆積と不純物制御
ダイヤモンドライク-カーボン及びCNXの液相合成
気相合成ダイヤモンド薄膜の電子デバイス化に関する研究
ResearchMapへ移動します
お問い合わせ先
取材に関するお問い合わせ
学長室（広報担当）
Tel. 0463-63-4670（直通）