室谷 裕志
ムロタニ ヒロシ
- 教授
- 学位：博士（工学）
基本情報
所属
- 情報理工学部 / 情報科学科
- 工学部 / 光・画像工学科
- 総合理工学研究科 / 総合理工学専攻
- 工学研究科 / 電気電子工学専攻
詳細情報
研究キーワード
- 視覚と知覚
- マイクロレンズ
- レーザー加工
- 光学材料
- 光学薄膜
研究分野
- ナノテク・材料 無機材料、物性
- ナノテク・材料 光工学、光量子科学
- ナノテク・材料 薄膜、表面界面物性
- 情報通信 感性情報学
- 情報通信 ソフトコンピューティング
論文
Optical Interference Coatings (OIC) 2022 参加報告
複合成膜法を用いた光学薄膜の開発
Remarkable durability improvement under high humidity of Ag thin film where Al or Ti nanolayer was deposited onto the surface
Optical properties of highly stable silver thin films using different surface metal layers
Evaluation of Opticaly active Crion in the Cr: Al2O3 ceramics by SNOM
Cr: Al2O3セラミックス中光学活性CrイオンのSNOMによる空間分布解析
Crを高濃度に添加したAl2O3焼結体の光学特性
光導波路用スパック成膜ZnO薄膜の構造評価と光学的性質
講演・口頭発表等
- ガラス表面のヤケの評価方法の検討 [2]
- 複合成膜により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜(2)
- 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜の親水性評価[5]
- 複合成膜手法によるTiO2薄膜の低屈折率化の検討
- 複合成膜により成膜された低屈折率 Al2O3光学薄膜の不均質の改善
- ブルーライトカットレンズを用いた時の色認識特性の検討
- OIC参加報告
- 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜の親水性評価[4]
- 複合成膜手法により作成されたTiO2薄膜におけるスパッタリングの影響
- ガラス表面のヤケの評価方法の検討
- 酸化セリウム膜の黄変のメカニズムの検討
所属学会
- SPIE（The International Society for Optical Engineering）
- 日本物理学会
- 日本セラミックス協会
- 日本光学会
- 応用物理学会
Works（作品等）
工学薄膜の高機能化の研究
共同研究・競争的資金等の研究課題
銀薄膜の高湿度下での耐性向上のメカニズムの解明
高安定銀薄膜の実用化を目指した光学特性評価
レーザー加工
光機能性セラミックスの研究
光学薄膜の高機能化の研究
果実の外観と熟度関係についての研究
光学薄膜の高品質化の研究
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お問い合わせ先
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学長室（広報担当）
Tel. 0463-63-4670（直通）