秋山 泰伸

Akiyama Yasunobu

  • 教授
  • 学位:博士(工学)

基本情報

所属

  • Undergraduate School of Engineering / Department of Applied Chemistry
  • Graduate School of Science and Technology / Course of Science and Technology
  • Graduate School of Engineering / Course of Applied Science
  • Micro/Nano Technology Center

ジャンル

  • Energy Issues
  • Education And Schools
  • Volunteer
  • Egyptian Civilization
  • Chemistry

研究と関連するSDGs

  • Quality Education
  • Industry, Innovation and Infrastructure

詳細情報

研究キーワード

  • Archaeological chemistry
  • Physical Chemistry
  • Inorganic Materials
  • Chemical Engineering

研究分野

  • Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering) Chemical reaction and process system engineering
  • Nanotechnology/Materials Inorganic materials
  • Nanotechnology/Materials Basic physical chemistry

論文

Synthesis of Hydroxyapatite-Alginate Hybrid Gel through Ionization Control Method

Preparation of Lithium Doped Zinc Oxide Thin Film by Low Pressure Chemical Vapor Deposition

Preparation of Zinc Oxide Thin Film by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition

Preparation of Lithium Doped Zinc Oxide Thin Film via Cold Wall Chemical Vapor Deposition Reactor

Growth Rate of Zinc Tin Oxide Thin Film Prepared by Low Pressure Chemical Vapor Deposition

Preparation of Barium Titanate Thin Film by Low Pressure Chemical Vapor Deposition Method

Preparation of Strontium Titanate Thin Film Using Low Pressure Metalorganic Chemical Vapor Deposition

Oxide Film Growth by CVD (Chemical Vapor Deposition) : Analyzing CVD Process Based on Reaction Engineering

Preparation of Barium Carbonate/Barium Silicate and Titanium Oxide Thin Film by Low Pressure Metalorganic Chemical Vapor Deposition

Preparation of Strontium Titanate Film by Low Pressure Chemical Vapor Deposition

Barium titanate thin film growth by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition

Modeling Titanium Oxide Growth by Chemical Vapor Deposition Using Titanium Tetra Isopropoxide

メソ構造を有するP2O5‐SiO2系薄膜の作製とその電気伝導度

Epitaxial growth of lithium niobate film using metalorganic chemical vapor deposition

Mg2+‐Fe3+‐A(A:Cl-,NO3-,SO42-)系パイロライトの合成とその特性

Preparation of Mesostructured P_2O_5-SiO_2 Thin Films and Their Electric Conductivity

反応工学に基づく「化学気相成長法による成膜過程」の解析

Analysis of Film Growth Process via Chemical Vapor Deposition based on Reaction Engineering(Introduction of research activities of new faculty members (2004))

Growth of Oxide Film —Modeling and Numerical Simulation of Thermal Chemical Vapor Deposition—

講演・口頭発表等

  • ポリスチレン微粒子作製時の粒子径へのメタノール濃度が及ぼす影響
  • 減圧CVD法で作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛薄膜の作製
  • 減圧熱CVD法で作製したリチウムドープ酸化亜鉛薄膜のステップカバレッジ
  • Gdx‐Fe1-x合金磁性細線における電流誘起磁壁移動特性の組成依存性
  • Gdx‐Fe1-x合金を用いた磁性細線の磁気特性と電流誘起磁壁移動
  • コールドウォール型熱CVD法による様々な基板位置での酸化亜鉛薄膜の作製
  • 引き上げ法における微粒子膜の配列制御
  • Gd‐Fe合金を用いた磁性細線の作製とその評価
  • Fabrication and evaluation of a Gd-Fe magnetic wire for current induced magnetic domain wall motion
  • 引き上げ法におけるポリスチレン微粒子膜の配列制御
  • コールドウォール型熱CVD法を用いて作製した酸化亜鉛薄膜の成膜速度
  • 熱CVD過程のモデル化
  • ソープフリー乳化重合によるポリスチレン微粒子作製時の粒子径制御
  • 熱CVD法で作製した酸化亜鉛薄膜の特性
  • アセチルアセトナート亜鉛を原料としたCVD法による酸化亜鉛薄膜の作製
  • 減圧熱CVD法によるリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の作製
  • 常圧熱CVD法を用いたLi‐doped ZnO薄膜の作製
  • アセチルアセトナート亜鉛を原料とした酸化亜鉛薄膜の減圧熱CVD
  • アルコキシド原料を用いたリチウム酸化物薄膜の熱CVD
  • コールドウォール型熱CVD装置を用いた酸化亜鉛の成膜と反応解析

共同研究・競争的資金等の研究課題

Measurement of Physical Properties

Modeling of Thermal CVD

ResearchMapへ移動します

Inquiries about coverage or research

Inquiries about coverage

Public Affairs Division Public Affairs and Communications Department

Tel. 0463-58-1211(Main) Fax. 0463-50-2215